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CVD管式爐時(shí)間：2024-08-27生產(chǎn)地址：天津廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家瀏覽量：6959CVD管式爐設(shè)備由沉積溫度控件、沉積反應(yīng)室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設(shè)計(jì)生產(chǎn)，CVD系統(tǒng)除了主要應(yīng)用在碳納米材料制備行業(yè)外，現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè)，包括納米電子學(xué)、半導(dǎo)體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域。
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1200℃雙溫區(qū)CVD系統(tǒng)時(shí)間：2024-08-27生產(chǎn)地址：天津廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家瀏覽量：7199
CVD管式爐設(shè)備由沉積溫度控件、沉積反應(yīng)室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設(shè)計(jì)生產(chǎn)，CVD系統(tǒng)除了主要應(yīng)用在碳納米材料制備行業(yè)外，現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè)，包括納米電子學(xué)、半導(dǎo)體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域。
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1200℃滑動式單溫區(qū)/雙溫區(qū)/三溫區(qū)CVD系統(tǒng)時(shí)間：2024-10-28生產(chǎn)地址：天津廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家瀏覽量：5483產(chǎn)品用途：此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)真空淬火退火，快速降溫等工藝實(shí)驗(yàn)。
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1200℃雙管滑動式單溫區(qū)/多溫區(qū)CVD系統(tǒng)時(shí)間：2024-10-28生產(chǎn)地址：天津廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家瀏覽量：5924
產(chǎn)品用途：此款CVD系統(tǒng)是專門為在金屬箔上生長薄膜而設(shè)計(jì)，特別是應(yīng)用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔電極方面的研究，通過滑動爐實(shí)現(xiàn)快速加熱和冷卻。
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石墨烯系統(tǒng)時(shí)間：2024-08-27生產(chǎn)地址：天津廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家瀏覽量：6132公司主營快速退火爐 馬佛爐管式電阻爐/熱處理電阻爐/高溫箱式電阻爐中環(huán)電阻爐/干燥箱/恒溫干燥箱/鼓風(fēng)干燥箱/電熱鼓風(fēng)干燥箱/真空干燥箱/遠(yuǎn)紅外干燥箱/濕熱實(shí)驗(yàn)箱/高溫電熱鼓風(fēng)干燥箱/大型電熱鼓風(fēng)干燥箱/水箱/電熱水箱/恒溫水箱/電熱恒溫水箱/萬用電爐/封閉萬用電爐/封閉電爐/CVD爐/cvd電爐/rtp爐/快速退火爐/立式電爐/管爐/石磨希電爐/RTP/快速激活爐/粉體電爐/快速熱氧化爐
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